표면적은 분자 규모 고체 시료의 노출된 표면을 측정한 것입니다. BET(Brunauer, Emmett, Teller) 이론은 면적을 측정하는 데 가장 많이 사용되는 모델이며, Langmuir 모델에 따른 결과도 확인할 수 있습니다. 일반적으로 시료를 가열하면서 동시에 불순물을 제거하기 위해 시료 위로 가스를 배출하거나 쏘여서 전처리합니다. 그런 다음 전처리한 시료를 액체 질소로 냉각하고 특정 압력에서 흡착된 가스의 부피를 측정하여 분석합니다.
표면적과 기공률은 고체상 다공성 물질의 품질과 특성에 영향을 미치는 물리적 특성입니다. 무게와 부피가 동일한 물질이라도 각각의 비표면적에 따라 표면 활성과 흡착 부피가 다를 수 있습니다.
공정 중, 특히 입도를 줄이는 공정에서 생성물의 비표면적이 변화할 수 있습니다. 제조 공정 동안 후속 변화가 발생하면 기공률과 표면적에 영향을 미칠 수 있습니다. 이러한 변화로 인해 원하는 성능이 예기치 않게 변경될 수 있습니다.
표면적 측정은 촉매, 제올라이트, MOF, 배터리, 흡수제, 인공 뼈, 의약품, 세라믹, 적층 제조용 금속 분말을 비롯한 다양한 응용 분야 및 산업 분야에서 사용되는 중요한 분석법입니다.
Micromeritics 실험실에는 표면적 측정을 위한 다양한 유형의 기기가 있으며, 선택되는 기기는 최상의 결과를 얻는 데 필요한 표면 또는 가스에 따라 달라집니다.
